截至2026年8月5日,三星電子首度以實體展示公開新一代3D堆疊記憶體「zHBM」,將記憶體直接垂直堆疊於AI加速器晶片正上方。與研發中的次世代高頻寬記憶體HBM5相比,zHBM在GPU上的效能最高可提升8倍,功耗效率也最高改善3倍。同場活動中,SK海力士則發表以NAND快閃記憶體為基礎的新記憶體階層HBF標準規格,走出截然不同的技術路線。
重點整理
- 三星電子在美國記憶體業界盛會的主題演講中,首度以實體模型展示zHBM結構。
- 有別於過去將記憶體與加速器並排放置的方式,zHBM直接將記憶體疊在晶片正上方,大幅縮短資料傳輸距離。
- 應用於裝置端AI的NAND解決方案zNAND-O,據該公司說明,在運行1200億參數模型時可將記憶體成本降至六分之一。
- SK海力士在同場活動與SanDisk共同發表HBF標準規格,主打多家企業共用的開放式生態系策略。
隨著業界不斷提出「AI晶片的瓶頸正逐漸從運算晶片轉移到記憶體」的診斷,韓國兩大記憶體廠商同時登上美國加州舉行、全球規模最大的記憶體暨儲存裝置盛會舞台。近年AI推論過程中消耗的權杖(token)數量急遽增加,兩家公司都認為既有結構的記憶體已難以負荷處理速度的需求。本次發表於當地時間前一天進行。
三星電子提出的解方,是讓記憶體不再往橫向或縱向擴充,而是朝「高度」方向堆疊。zHBM打破過去將高頻寬記憶體放置在加速器旁邊的做法,直接將記憶體疊在晶片正上方,藉此縮短訊號傳輸的實際距離。三星採用整片晶圓對晶圓接合技術,以及銅對銅直接接合的方式,大幅提高配線密度,使熱阻也降至開發中HBM5的10%至25%左右。負責發表的高階主管表示,比起通用型產品,公司將優先與處理器廠商從設計階段就開始合作,走客製化開發路線。
儲存裝置領域同樣延續3D策略。三星電子業界首度公開堆疊超過400層的第10代V-NAND,並同步展示將多層再次整合、專為裝置端應用打造的解決方案zNAND-O。此架構讓需要快速處理的暫存資料交由DRAM負責,而容量龐大的AI模型本身則存放於NAND記憶體,量產樣品預計自2028年起供貨。
SK海力士則選擇了另一條路。該公司與SanDisk共同完成並發表HBF標準規格,將NAND堆疊至8層或16層,最高支援512GB容量、每秒最高3TB的傳輸速度。此規格採用業界共通的UCIe連接標準,可靈活對接不同處理器,Google與Tenstorrent也共同參與了標準化工作。與三星電子力求整合所有製程於內部的做法不同,SK海力士採取的是擴大多家企業共同使用平台的策略。
市場情勢也是本次發表的背景之一。三星電子今年第1季記憶體營收持續穩坐全球龍頭,市場調查機構預期明年整體記憶體市場規模將較今年大幅擴大。一家法系調查機構分析指出,憑藉兩家公司持續擴大的投資與政府支持,韓國可望在未來數年持續維持記憶體領域的領先地位;不過該機構也提到,隨著AI市場重心從訓練逐漸轉向推論,新產品開發週期加快將成為新的變數。
常見問題
zHBM與既有HBM有何不同?
既有HBM是將記憶體並排放置在AI加速器旁邊,而zHBM則是直接把記憶體垂直堆疊在加速器晶片正上方,將資料傳輸距離降到最低。
SK海力士的HBF與zHBM有何差異?
HBF是以NAND快閃記憶體為基礎、大幅擴充容量的新記憶體階層,定位並非取代HBM,而是與HBM搭配使用,補足大容量AI推論的需求。
這些技術何時會真正應用在產品上?
zNAND-O的量產樣品預計自2028年起供貨;包括HBF在內的NAND基礎記憶體階層,業界預期將於2030年前後正式邁入商用化。





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