LG電子・LGエナジー、エヌビディアAI認証を揃って取得

冷却配管が接続されたAIデータセンターのサーバールームの様子。

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2026年9月22日時点、LG電子とLGエナジーソリューションがそろってエヌビディアの次世代AIデータセンター標準『DSXレディ』認証を取得した。LG電子は2.5メガワット級の大容量冷却水分配装置が、LGエナジーソリューションはバッテリー・エネルギー貯蔵システムが、それぞれ承認対象に含まれた。これによりLGグループは冷却と電力貯蔵の両分野で同時にエヌビディアのAIインフラ生態系に名を連ねることになった。

2.5MWエヌビディア認証を取得したLG電子の大容量冷却装置の容量
3社エヌビディアDSXレディBESS認証を取得した世界の企業数
60%2027年に予想されるAIデータセンターの液冷導入率(トレンドフォース)
50GWhLGエナジーソリューションが年末までに目指す北米ESS生産能力

要点まとめ

  • LG電子は2.5メガワット級の大容量冷却水分配装置でエヌビディアのDSXレディ認証を取得し、小・中・大の全ラインアップを完成させた。
  • 同じ日にLGエナジーソリューションもバッテリーESS部門で認証を取得し、世界でわずか3社しかないパートナー企業に名を連ねた。
  • 市場調査会社は、AIデータセンターの液冷導入率が2027年に60%に達すると予測している。

エヌビディアは、AIデータセンターを演算・冷却・電力・ソフトウェアまで一体で認証する『DSXレディ』制度を運用しており、冷却水分配装置(CDU)部門では2.3メガワットを超える大容量製品のみを審査対象としている。LG電子はこの基準をクリアし、自社の2.5メガワット級装置が正式に承認されたと22日発表した。この装置は複数のサーバーラックをひとつのグループとしてまとめて冷却する方式に使われるもので、最近はAIサーバーラック1台の容量が120キロワット前後まで拡大し、20台をまとめたグループの発熱量が2.5メガワット規模に達することから、業界では大容量の基準点とされている。

LG電子は先立って今年7月と今月にそれぞれ600キロワット級、1メガワット級製品でも同じ認証を取得しており、今回の承認で小・中・大容量を網羅する冷却水分配装置ラインアップを完成させた。大量の冷水を作るチラーやサーバールーム用空調機、チップを直接冷やすコールドプレートまで揃え、半導体の発熱管理の全工程をカバーする体制を整えたという。

同じ日、系列会社のLGエナジーソリューションもバッテリー・エネルギー貯蔵システム(ESS)部門でDSXレディ認証を取得した。世界でこの部門の認証を通過した企業はわずか3社のみで、韓国の電池メーカーとしてはLGエナジーソリューションが唯一だ。認証を受けた製品はリン酸鉄リチウム(LFP)を採用した『JF2 AC Link』で、AIサーバーの瞬間的な電力使用量の変化に合わせて充放電を調整し、送電網の電圧が急変しても供給を安定的に維持する機能を備えている。

市場調査会社は、AIデータセンターの液冷導入比率が2024年の14%水準から2027年には60%近くまで高まると予測しており、冷却と電力貯蔵はいずれもAIインフラ構築の重要な変数として浮上している。LGエナジーソリューションは現在、北米に5カ所のESS生産拠点を持っており、年末までに現地の生産能力を50ギガワット時以上に拡大する計画だと明らかにした。

韓国の今韓国国内では、LGグループ系列の2社が同じ日にそろってエヌビディアの認証を取得したことが話題になっている。特にLGエナジーソリューションは、電気自動車需要の鈍化で苦戦していた電池業界にとって、データセンター向けESSという新たな活路が開けた点で注目されている。世界のAI半導体市場を事実上主導するエヌビディアの標準に韓国企業の名前が並んだことは、AIサプライチェーンにおける韓国製造業の存在感を示す事例として受け止められている。

よくある質問

『DSXレディ』とは具体的にどのような認証ですか?

エヌビディアが自社のAIデータセンター標準『DSX』プラットフォームに合わせて、演算・冷却・電力など各分野のパートナー企業の製品性能と安全性を検証し付与するパートナー資格です。

なぜ大容量冷却装置がAIデータセンターに重要なのですか?

高性能AI半導体は従来のサーバーよりはるかに多くの熱を発するため空冷だけでは限界があり、複数のラックをまとめて水で冷やす大容量設備が安定稼働の必須条件とされています。

今回の認証は韓国の電池・家電産業にとってどんな意味がありますか?

電気自動車需要の鈍化で縮小していた電池事業と、家電中心だった冷却事業がいずれもデータセンターという新市場で成長の足がかりを得たと評価されています。

📎 원문 보기 · Sources

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